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2018After Effects CC 蒙版的创建

前端设计工程师——刘旭

擅长前端设计及开发,视觉把控能力强。

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2018After Effects CC 蒙版的创建

当一个素材被合成到一个项目里时,需要将一些不必要的背景去除掉,但并不是所有素材的 背景都是非常容易被分离出来,这时我们必须使用【蒙版】Mask将背景遮罩。【蒙版】被创建时 也会作为图层的一个属性显现在属性列表里。

【蒙版】Mask是一个用路径绘制的区域,控制透明区域和不透明区域的范围。在After Effects 中用户可以通过遮罩绘制图形,控制效果范围等各种富于变化的效果。当一个【蒙版】Mask被创 建后,位于【蒙版】Mask范围内的区域是可以被显示的,区域范围外的图像将不可见,如图所示。image.png

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