BAO Mask Avenger 最新版 v2.7.1
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- 分类:办公软件
- 发布者:wx20230305205025
资源介绍
BAO Mask Avenger最新版是很容易操作且使用范围很广泛的AE高级遮罩脚本,BAO Mask Avenger电脑版可以直接在AE中控制和编辑Mask路径和遮罩的顶点,同时在三维空间做路径动画。BAO Mask Avenger软件可以控制Mask(遮罩)的顶点及切线,还可以为顶点添加3D模式(Z轴),对顶点添加表达式控制。

软件特色
拉姆预览保护。以前版本的最大问题是Ram预览无效
通过插件。 Mask Avenger 2.0新的烘焙系统避免了这一点。
3D面具。 BAO Mask Avenger最新版现在可以在3D中控制蒙版,而无需使用空图层和表达式。
然后更快地计算掩模,并简化表达式写入。
背景烘焙。当需要修改蒙版时,蒙版复仇者会立即对其进行转换
当前时间,并在后台烘烤工作区域的其余部分。这意味着您可以继续工作
而面具复仇者正在忙着烘焙。这取代了«Dynamic»和«bake»模式。
更好地塑造层兼容性。与“动态”模式相关的错误随着新烘焙而消失系统。
工作区和图层的持续时间不再影响Mask Avenger的计算速度。当然,
烘焙100,000个关键帧需要超过10个,但新的烘焙系统允许您继续工作
而它正在烘烤。
不再需要Mask Renderer。 Mask Avenger现在使用AE自己的掩蔽功能,运行速度更快。
面具预览。 Mask avenger 2.0有一个预览系统,可以动态地显示它们之前的变化
适用于面具。这可以避免在表达式,其他图层或相机修改蒙版时出现延迟。