BAO Mask Avenger 最新版 v2.7.1

   BAO Mask Avenger最新版是很容易操作且使用范围很广泛的AE高级遮罩脚本，BAO Mask Avenger电脑版可以直接在AE中控制和编辑Mask路径和遮罩的顶点，同时在三维空间做路径动画。BAO Mask Avenger软件可以控制Mask(遮罩)的顶点及切线，还可以为顶点添加3D模式(Z轴)，对顶点添加表达式控制。

软件特色

      拉姆预览保护。以前版本的最大问题是Ram预览无效

      通过插件。 Mask Avenger 2.0新的烘焙系统避免了这一点。

      3D面具。 BAO Mask Avenger最新版现在可以在3D中控制蒙版，而无需使用空图层和表达式。

      然后更快地计算掩模，并简化表达式写入。

      背景烘焙。当需要修改蒙版时，蒙版复仇者会立即对其进行转换

      当前时间，并在后台烘烤工作区域的其余部分。这意味着您可以继续工作

      而面具复仇者正在忙着烘焙。这取代了«Dynamic»和«bake»模式。

      更好地塑造层兼容性。与“动态”模式相关的错误随着新烘焙而消失系统。

      工作区和图层的持续时间不再影响Mask Avenger的计算速度。当然，

      烘焙100,000个关键帧需要超过10个，但新的烘焙系统允许您继续工作

      而它正在烘烤。

      不再需要Mask Renderer。 Mask Avenger现在使用AE自己的掩蔽功能，运行速度更快。

      面具预览。 Mask avenger 2.0有一个预览系统，可以动态地显示它们之前的变化

      适用于面具。这可以避免在表达式，其他图层或相机修改蒙版时出现延迟。

控制说明